福島君 (M2) が MEMS X線光学系の新たな改良手法である研削・研磨プロセスについてまとめた論文が Applied Optics 誌に掲載されました。
本研究は繊細な光学系に研削・研磨を施す手法を初めて確立したもので、形状の悪い反射面を除くことで光学系の反射率を大幅に改善することに成功しています。この新プロセスの導入により、今後は反射面を選択的に切り出すことが可能となり、角度分解能の向上にも期待がかかります。
Title: Grinding and chemical mechanical polishing process for micropore x-ray optics fabricated with deep reactive ion etching
Authors: Aoto Fukushima, Maiko Fujitani, Kumi Ishikawa, Masaki Numazawa, Daiki Ishi, Ryota Otsubo, Hikaru Nagatoshi, Hikaru Suzuki, Tatsuya Yuasa, Takaya Ohashi, Kazuhisa Mitsuda, and Yuichiro Ezoe
Link: https://www.osapublishing.org/ao/abstract.cfm?uri=ao-58-19-5240&origin=search
